フォトリソグラプィ(Photolithography) &太陽電池シミュレータ
フォトリソグラフィ( Photolithographyは、感光性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光(パターン露光、像様露光などとも言う)することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。主に、半導体素子、プリント基板、印刷版、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられれます。半導体素子の製造においては、フォトリソグラフィは次のように行われる。シリコン、ヒ化ガリウム等の半導体ウェハー上にフォトレジストと呼ばれる感光性有機物質を塗布し、ステッパーと呼ばれる露光装置を用いて、レチクルと呼ばれるフォトマスクに描かれた素子・回路のパターンを焼き付ける。レジストに光を照射して反応させるには、回路図形状を描いたマスクを用い、光を照射する部分を制御することで必要な形状をレジスト上に描く。露光装置はマスクとウェハーを密着させ露光する。パターンが微細化するほど短波長の光源が必要である。

200 & 200IR型露光装置
特長:
モデル200マスクアライナとUV露光システムは、RDまたは小スケールパイロット生産に使用され
ている最小限のスペースを必要とする低コスト、高性能小型装置です。空気ベアリング/
真空チャック
のレベリングシステムを利用して、接触露光中のウェハー全体を均一的に露光させ、1ミクロンの分解
能とアライメント精度が可能です。
デュアルセンサー、光フィードバックループは、コントローラに
リンクされ、± 2%以内露光強度制御可能です。

800FSA フロントサイド露光装置
特長:
800FSA型マスクアライナは、半自動、光学フロントサイド露光装置です。精度が高く、超精密
1μm~2μm)の実現、少量生産、RD研究所、および大学での使用に最適です。最大2KW
の光源で、多種多様な構成が可能。200mmの正方形に基板を収容することができ、ウェーハー
チャックは簡単にロードおよびアンロードを可能にするために配置されています。この低コスト、
電動オートレベル・オートギャップセッティング装置は、除振プラットフォーム、固定マスク
ホルダアセンブリの保証のアライメント精度と再現性に基づいて構築され、操作は、読みやすい、
PLC
及びタッチスクリーンを使用して簡略化されています。

600型, 大基板用露光装置
特長:
600型マスクアライナシステムは、ユニークな特徴を持ち、任意のアプリケーションに合わせて設
定すること、又、近、中、ディープUV波長の選択ができる上、特殊なアライメント光学系、感圧
チャック(脆性基板で使用するため)、およびマルチスペクトル露光装置を含む、幅広いオプション
を持っています。取り換えられるサブモジュールで、システムは標準アプリケーションだけではなく、
多くのユニークな要件を満たすように構成することができます。5kWまでの光源には特別な、ミラー
反射板を使用、最大500mm2基板が処理出来ます。

5000型フロントサイド露光装置
特長:
5000型マスクアライナは、最も要求の厳しい半導体デバイス及びMEMSアプリケーションには、
完全に自動化された、高性能、超精密フロントサイド、サブミクロン露光装置です。装置の柔軟
な設計は、様々な200mm円形または正方形基板上に印刷を可能にします。露光システムは、近、
中、または深紫外域にレジストに光を照射して、反応させることができます。又、この露光システム
はフル生産のツールとして設計されましたが、少量生産、短期的エンジニアリング、またはRD
アプリケーションに適しているマニュアルの構成でも利用可能で、最大5kWのランプを使用、近接、
接触または真空モードで使用することができます。

2012AF型 300mm 自動フラッド露光装置
特長:
2012AF型フラッド露光装置は、標準のシャドウマスク技術を用いて、低コスト、自動FOUPロード
の特長を持ち、300mmまでのウェハーを収容、エッジビード除去するために設計された装置です。
マスクと基板の切り替えを素早く行うことと、簡単な汎用性は、大容量スループットの生産を可能
にします。

太陽電池シミュレータ/PV技術

特長:

太陽光発電と太陽光シミュレーションの市場に、最大300mm2のクラスAAAソーラーシミュレータ
の完全なラインアップとその関連製品を用意しております。